等離子體增強滑動式PECVD真空管式爐

等離子體增強滑動式PECVD管式爐是一款滑動式PECVD系統。該CVD系統包含500W等離子源, 80Dx1600L mm 滑動式, 4通道質量流量供氣系統和機械泵機組，此PECVD系統主要用于：等離子誘導表面改性；等離子清洗；等離子聚合; 表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、等離子體類金剛石等多種薄膜，生長納米或石墨烯。與傳統的CVD管式爐系統相比，只需較低的制備溫度，滑軌式還可以快速加熱和快速冷卻。

等離子體化學氣相沉積PECVD系統以真空管式爐為主體，具有固態等離子源、分開式反應氣體進氣系統，動態襯底溫控，控制真空系統，采用集中現場控制總線技術的nobody控制軟件，以及友好用戶操作界面來操作。

等離子體化學氣象沉積技術是未來先進前展性科學技術，有廣闊的發展前景。鄭州恒通爐業有限公司的可組合式等離子增強化學氣相沉積裝置是相關單位的不二選擇。