HT-TLF提拉法晶體生長(zhǎng)爐是一種用于生長(zhǎng)高質(zhì)量單晶體的設(shè)備，可用于生長(zhǎng)Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
HT-TLF提拉法是一種用于生長(zhǎng)高質(zhì)量單晶體的設(shè)備，可用于生長(zhǎng)Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
產(chǎn)品名稱 | 提拉法晶體生長(zhǎng)爐 |
工作電壓 | 輸入電壓：380V ,50HZ，三相 最大輸出功率25KW |
真空腔體 | 304不銹鋼真空腔體 真空腔體尺寸：Φ320*320mm 腔體上有石英窗口，便于觀察材料熔化，種籽晶和長(zhǎng)晶過程 |
提拉機(jī)構(gòu) | 提拉機(jī)構(gòu)次啊用精密伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng) 控制器控制提拉機(jī)構(gòu)的提拉速度，轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)速 提拉速度：0.4-15mm/hr 提拉干旋轉(zhuǎn)速度：0.1-23RPM 移動(dòng)行程：0-250mm 提拉機(jī)構(gòu)可快速移動(dòng)35mm/min |
真空氣氛 | 真空腔體可抽真空和通入惰性氣氛 真空度：5*10-6torr（采用分子泵系統(tǒng)） 5*10-2torr（采用機(jī)械泵） |
控制面板 | 觸摸屏控制面板 可控制提拉速度，提拉行程，籽晶桿轉(zhuǎn)速和工作溫度 |
服務(wù) | 一年保質(zhì)期，終身維護(hù)（設(shè)備相關(guān)耗材如O型圈，加熱元件等不在保修范圍內(nèi)） |
HT-TLF提拉法是一種用于生長(zhǎng)高質(zhì)量單晶體的設(shè)備，可用于生長(zhǎng)Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
產(chǎn)品名稱 | 提拉法晶體生長(zhǎng)爐 |
工作電壓 | 輸入電壓：380V ,50HZ，三相 最大輸出功率25KW |
真空腔體 | 304不銹鋼真空腔體 真空腔體尺寸：Φ320*320mm 腔體上有石英窗口，便于觀察材料熔化，種籽晶和長(zhǎng)晶過程 |
提拉機(jī)構(gòu) | 提拉機(jī)構(gòu)次啊用精密伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng) 控制器控制提拉機(jī)構(gòu)的提拉速度，轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)速 提拉速度：0.4-15mm/hr 提拉干旋轉(zhuǎn)速度：0.1-23RPM 移動(dòng)行程：0-250mm 提拉機(jī)構(gòu)可快速移動(dòng)35mm/min |
真空氣氛 | 真空腔體可抽真空和通入惰性氣氛 真空度：5*10-6torr（采用分子泵系統(tǒng)） 5*10-2torr（采用機(jī)械泵） |
控制面板 | 觸摸屏控制面板 可控制提拉速度，提拉行程，籽晶桿轉(zhuǎn)速和工作溫度 |
服務(wù) | 一年保質(zhì)期，終身維護(hù)（設(shè)備相關(guān)耗材如O型圈，加熱元件等不在保修范圍內(nèi)） |
HT-TLF提拉法是一種用于生長(zhǎng)高質(zhì)量單晶體的設(shè)備，可用于生長(zhǎng)Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
產(chǎn)品名稱 | 提拉法晶體生長(zhǎng)爐 |
工作電壓 | 輸入電壓：380V ,50HZ，三相 最大輸出功率25KW |
真空腔體 | 304不銹鋼真空腔體 真空腔體尺寸：Φ320*320mm 腔體上有石英窗口，便于觀察材料熔化，種籽晶和長(zhǎng)晶過程 |
提拉機(jī)構(gòu) | 提拉機(jī)構(gòu)次啊用精密伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng) 控制器控制提拉機(jī)構(gòu)的提拉速度，轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)速 提拉速度：0.4-15mm/hr 提拉干旋轉(zhuǎn)速度：0.1-23RPM 移動(dòng)行程：0-250mm 提拉機(jī)構(gòu)可快速移動(dòng)35mm/min |
真空氣氛 | 真空腔體可抽真空和通入惰性氣氛 真空度：5*10-6torr（采用分子泵系統(tǒng)） 5*10-2torr（采用機(jī)械泵） |
控制面板 | 觸摸屏控制面板 可控制提拉速度，提拉行程，籽晶桿轉(zhuǎn)速和工作溫度 |
服務(wù) | 一年保質(zhì)期，終身維護(hù)（設(shè)備相關(guān)耗材如O型圈，加熱元件等不在保修范圍內(nèi)） |
HT-TLF提拉法是一種用于生長(zhǎng)高質(zhì)量單晶體的設(shè)備，可用于生長(zhǎng)Al203,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各種金屬單晶等
產(chǎn)品名稱 | 提拉法晶體生長(zhǎng)爐 |
工作電壓 | 輸入電壓：380V ,50HZ，三相 最大輸出功率25KW |
真空腔體 | 304不銹鋼真空腔體 真空腔體尺寸：Φ320*320mm 腔體上有石英窗口，便于觀察材料熔化，種籽晶和長(zhǎng)晶過程 |
提拉機(jī)構(gòu) | 提拉機(jī)構(gòu)次啊用精密伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng) 控制器控制提拉機(jī)構(gòu)的提拉速度，轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)速 提拉速度：0.4-15mm/hr 提拉干旋轉(zhuǎn)速度：0.1-23RPM 移動(dòng)行程：0-250mm 提拉機(jī)構(gòu)可快速移動(dòng)35mm/min |
真空氣氛 | 真空腔體可抽真空和通入惰性氣氛 真空度：5*10-6torr（采用分子泵系統(tǒng)） 5*10-2torr（采用機(jī)械泵） |
控制面板 | 觸摸屏控制面板 可控制提拉速度，提拉行程，籽晶桿轉(zhuǎn)速和工作溫度 |
服務(wù) | 一年保質(zhì)期，終身維護(hù)（設(shè)備相關(guān)耗材如O型圈，加熱元件等不在保修范圍內(nèi)） |
