小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀，配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選，用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧，功能出色、配置齊全，兼容超凈間，性能穩定。可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀，配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選，用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧，功能出色、配置齊全，兼容超凈間，性能穩定。可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數：
設備名稱 | 分體式單靶磁控濺射儀 |
電源 | AC220V/50HZ |
射頻電源（選配） | 輸入電源：220V |
輸入功率：0-300W | |
輸入頻率：13.56MHZ | |
冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 | |
直流電源（選配） | 輸入電源：220V |
直流輸出功率：0-500W | |
最大工作電流：0.75A | |
冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 | |
石英腔室 | 石英罩：167mm OD×152mm ID×250mm |
下法蘭蓋為304不銹鋼材質，上法蘭蓋為鋁材質 | |
腔室極限真空度 | |
配置機械泵<1pa（7.5*10-2torr） | |
配置分子泵<5*10-3pa（3.7*10-5torr） | |
法蘭蓋上帶有手動泄壓閥 | |
樣品臺 | 一個直徑為?50mm的不銹鋼樣品臺，樣品臺可轉動，旋轉速率為0.5-5RPM/min |
樣品臺標配加熱功能，樣品臺最高加熱溫度500℃ | |
可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能，樣品臺冷卻最低溫度5℃ | |
濺射靶頭 | 標配2尺寸的磁控濺射頭，內部嵌有冷卻水管，可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻，從而能夠可以長時間進行濺射 |
配有一手動操作的擋板，當第一次濺射清楚靶材表面的氧化層和污物層，擋住基片，防止污染基片 | |
樣品臺和靶頭之間的距離可以調節，調節范圍60-80mm（可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭） | |
靶材 | 設備配有一塊銅靶材，尺寸：?50.8mm（2”）×3mm（厚度）（可根據客戶要求選配其他靶材：Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn等） |
要求靶材尺寸：?50.8mm×0.1-5mm（厚度） | |
外形尺寸 | 主機尺寸：460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保質期 | 1年（不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件） |
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術，具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中，通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數，可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。
小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀，配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選，用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧，功能出色、配置齊全，兼容超凈間，性能穩定。可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數：
設備名稱 | 分體式單靶磁控濺射儀 |
電源 | AC220V/50HZ |
射頻電源（選配） | 輸入電源：220V |
輸入功率：0-300W | |
輸入頻率：13.56MHZ | |
冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 | |
直流電源（選配） | 輸入電源：220V |
直流輸出功率：0-500W | |
最大工作電流：0.75A | |
冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 | |
石英腔室 | 石英罩：167mm OD×152mm ID×250mm |
下法蘭蓋為304不銹鋼材質，上法蘭蓋為鋁材質 | |
腔室極限真空度 | |
配置機械泵<1pa（7.5*10-2torr） | |
配置分子泵<5*10-3pa（3.7*10-5torr） | |
法蘭蓋上帶有手動泄壓閥 | |
樣品臺 | 一個直徑為?50mm的不銹鋼樣品臺，樣品臺可轉動，旋轉速率為0.5-5RPM/min |
樣品臺標配加熱功能，樣品臺最高加熱溫度500℃ | |
可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能，樣品臺冷卻最低溫度5℃ | |
濺射靶頭 | 標配2尺寸的磁控濺射頭，內部嵌有冷卻水管，可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻，從而能夠可以長時間進行濺射 |
配有一手動操作的擋板，當第一次濺射清楚靶材表面的氧化層和污物層，擋住基片，防止污染基片 | |
樣品臺和靶頭之間的距離可以調節，調節范圍60-80mm（可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭） | |
靶材 | 設備配有一塊銅靶材，尺寸：?50.8mm（2”）×3mm（厚度）（可根據客戶要求選配其他靶材：Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn等） |
要求靶材尺寸：?50.8mm×0.1-5mm（厚度） | |
外形尺寸 | 主機尺寸：460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保質期 | 1年（不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件） |
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術，具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中，通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數，可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。
小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀，配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選，用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧，功能出色、配置齊全，兼容超凈間，性能穩定。可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數：
設備名稱 | 分體式單靶磁控濺射儀 |
電源 | AC220V/50HZ |
射頻電源（選配） | 輸入電源：220V |
輸入功率：0-300W | |
輸入頻率：13.56MHZ | |
冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 | |
直流電源（選配） | 輸入電源：220V |
直流輸出功率：0-500W | |
最大工作電流：0.75A | |
冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 | |
石英腔室 | 石英罩：167mm OD×152mm ID×250mm |
下法蘭蓋為304不銹鋼材質，上法蘭蓋為鋁材質 | |
腔室極限真空度 | |
配置機械泵<1pa（7.5*10-2torr） | |
配置分子泵<5*10-3pa（3.7*10-5torr） | |
法蘭蓋上帶有手動泄壓閥 | |
樣品臺 | 一個直徑為?50mm的不銹鋼樣品臺，樣品臺可轉動，旋轉速率為0.5-5RPM/min |
樣品臺標配加熱功能，樣品臺最高加熱溫度500℃ | |
可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能，樣品臺冷卻最低溫度5℃ | |
濺射靶頭 | 標配2尺寸的磁控濺射頭，內部嵌有冷卻水管，可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻，從而能夠可以長時間進行濺射 |
配有一手動操作的擋板，當第一次濺射清楚靶材表面的氧化層和污物層，擋住基片，防止污染基片 | |
樣品臺和靶頭之間的距離可以調節，調節范圍60-80mm（可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭） | |
靶材 | 設備配有一塊銅靶材，尺寸：?50.8mm（2”）×3mm（厚度）（可根據客戶要求選配其他靶材：Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn等） |
要求靶材尺寸：?50.8mm×0.1-5mm（厚度） | |
外形尺寸 | 主機尺寸：460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保質期 | 1年（不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件） |
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術，具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中，通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數，可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。
小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀，配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選，用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧，功能出色、配置齊全，兼容超凈間，性能穩定。可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
技術參數：
設備名稱 | 分體式單靶磁控濺射儀 |
電源 | AC220V/50HZ |
射頻電源（選配） | 輸入電源：220V |
輸入功率：0-300W | |
輸入頻率：13.56MHZ | |
冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 | |
直流電源（選配） | 輸入電源：220V |
直流輸出功率：0-500W | |
最大工作電流：0.75A | |
冷卻方式：設備內部的冷卻方式為風冷 | |
石英腔室 | 石英罩：167mm OD×152mm ID×250mm |
下法蘭蓋為304不銹鋼材質，上法蘭蓋為鋁材質 | |
腔室極限真空度 | |
配置機械泵<1pa（7.5*10-2torr） | |
配置分子泵<5*10-3pa（3.7*10-5torr） | |
法蘭蓋上帶有手動泄壓閥 | |
樣品臺 | 一個直徑為?50mm的不銹鋼樣品臺，樣品臺可轉動，旋轉速率為0.5-5RPM/min |
樣品臺標配加熱功能，樣品臺最高加熱溫度500℃ | |
可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能，樣品臺冷卻最低溫度5℃ | |
濺射靶頭 | 標配2尺寸的磁控濺射頭，內部嵌有冷卻水管，可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻，從而能夠可以長時間進行濺射 |
配有一手動操作的擋板，當第一次濺射清楚靶材表面的氧化層和污物層，擋住基片，防止污染基片 | |
樣品臺和靶頭之間的距離可以調節，調節范圍60-80mm（可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭） | |
靶材 | 設備配有一塊銅靶材，尺寸：?50.8mm（2”）×3mm（厚度）（可根據客戶要求選配其他靶材：Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn等） |
要求靶材尺寸：?50.8mm×0.1-5mm（厚度） | |
外形尺寸 | 主機尺寸：460L×300W×715Hmm |
重量 | 20KG |
保質期 | 1年（不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件） |
小型磁控濺射儀通常采用磁控濺射技術，具有結構緊湊、操作簡便、性能穩定等特點。其核心部件包括濺射靶材、磁場系統、真空室、氣體供應系統和控制系統等。在濺射過程中，通過調整磁場、氣體壓力和濺射功率等參數，可以實現對薄膜成分、結構和性能的精確控制。
