HTAF-1400真空氣氛爐

HTAF-1400-12真空滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備.

HTAF-1400-12真空氣氛爐以硅碳棒為加熱元件，爐體采用雙層爐殼結構，雙層風冷系統，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低；爐門、爐頂采用高溫硅橡膠密封，爐門配備水冷系統(可選)。爐體上有進氣口、出氣口、抽真空口。爐膛材料采用優質的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節能50%，加熱元件采用硅碳棒。電爐溫度控制系統采用人工智能調節技術，具有PID調節、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統溫度顯示精度為1℃，溫場穩定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意置。可以通氫氣、氬氣、氮氣等其他氣體，并能預抽真空，真氛壓力可以達到0.1Mpa,爐體采用厚鋼板加工而成，安全可靠，符合國家標準。

真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛等，物體在通入一定氣體的爐膛內進行燒結的方法。不同的材料選擇適宜的氣氛燒結，有助于燒結過程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結。 有時為保護燒結調協也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。

HTAF-1400-12真空滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備.

HTAF-1400-12真空氣氛爐以硅碳棒為加熱元件，爐體采用雙層爐殼結構，雙層風冷系統，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低；爐門、爐頂采用高溫硅橡膠密封，爐門配備水冷系統(可選)。爐體上有進氣口、出氣口、抽真空口。爐膛材料采用優質的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節能50%，加熱元件采用硅碳棒。電爐溫度控制系統采用人工智能調節技術，具有PID調節、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統溫度顯示精度為1℃，溫場穩定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意置。可以通氫氣、氬氣、氮氣等其他氣體，并能預抽真空，真氛壓力可以達到0.1Mpa,爐體采用厚鋼板加工而成，安全可靠，符合國家標準。

真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛等，物體在通入一定氣體的爐膛內進行燒結的方法。不同的材料選擇適宜的氣氛燒結，有助于燒結過程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結。 有時為保護燒結調協也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。